手机版 |
产品分类 |
半导体行业专用仪器
CAMTEK自动光学检验EagleT-i
CAMTEK自动光学检验Eagle-AP
CAMTEK自动光学检验Eagle-I
CAMTEK半导体AOI设备
Trymax等离子灰化和蚀刻NEO200A平台
Trymax等离子灰化和蚀刻NEO300A平台
Trymax先进等离子灰化和蚀刻
TRYMAX等离子除胶机Neo2000
TRYMAX等离子除胶机NEO3000
TRYMAX等离子除胶机NEO2400
其他
亚科电子-超高分辨率电子束光刻EBL
超高分辨率的电子束光刻
亚科电子-超高分辨率的电子束光刻
电子束光刻
电子束光刻系统(EBL)
PICOSUN®R-200高级ALD镀膜设备
PICOSUN®Morpher原子层沉积系统ALD
PICOSUN®P-1000原子层沉积系统ALD
PICOSUN®P-300S原子层沉积系统ALD
PICOSUN®P-300BV原子层沉积系统ALD
光学仪器及设备
聚焦离子束(Xe)扫描电镜FERA -XM
聚焦离子束(Xe)扫描电镜FERA -GM
聚焦离子束(Xe)扫描电镜FERA
场发射扫描电镜MIRA-LM
场发射扫描电镜MIRA XM
场发射扫描电镜MIRA- GM
场发射扫描电镜MIRA-GM
钨灯丝扫描电镜VEGA-SB
钨灯丝扫描电镜VEGA-SBU - EasyProbe
钨灯丝扫描电镜VEGA LM
测量/计量仪器
三维光学显微镜
ContourX-500 3D计量的全自动台式
ContourX-500 3D光学轮廓仪
ContourX-200 3D光学轮廓仪
ContourX-100 3D粗糙度测量精简而经济
ContourX-100 3D光学轮廓仪
多功能材料力学测试系统UMT
ContourGT-K 3D光学显微镜
探针式表面轮廓仪
Bruker布鲁克Dektak XT桌面型探针式表面轮廓仪
制样/消解设备
美国MARCH AP-300等离子系统—紧凑型、桌面式
美国MARCH AP-1000等离子清洗系统
MARCH AP-600等离子系统紧凑型、桌面式
研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570
法国IBS IMC210中束流离子注入机
AP-600等离子系统-紧凑型、桌面式等离子处理设备
SPTS深硅刻蚀设备
RAITH电子束曝光设备
RIE反应离子刻蚀SI 591
ICP-RIE感应耦合等离子刻蚀SI 500
X射线仪器
Nordson Dage Quadra™ 3 X-射线检测系统
Nordson Dage X-射线检测系统XD7800NT
Quadra™ 7 X-射线检测系统
Nordson Dage Quadra™ 5 X-射线检测系统
Nordson DAGE Quadra X光检查机
QC3高分辨率X射线衍射仪
Jordan Valley Delta-X多功能的X射线衍射设备
X射线单晶衍射仪
比表面积测定仪
Hysitron TI定量纳米力学研究
布鲁克BRUKER纳米力学测试设备Bruker TI 950
Bruker Hysitron TI 980纳米压痕仪
Hysitron TS 77 Select纳米压痕仪
布鲁克高精度纳米力学测试系统TI 980
Bruker微纳压痕划痕测试仪CETR-Apex
无损检测/无损探伤仪器
超声波扫描显微镜:C-SAM检测系统
Sonoscan D9600 C-SAM超声波扫描显微镜
Sonoscan超声波扫描显微镜Gen7 C-SAM检测系统
Nordson Dage Quadra 5 X-射线检测系统
Quadra系列X射线检测系统
试验机
Nordson DAGE 4000Plus 焊接强度测试仪
Nordson DAGE 3800+焊接强度测试仪
摩擦磨损试验机UMT-TriboLab
芯片系统
微流控芯片加工:EVG 610单面/双面光刻机
联系方式 |
产品系列
RAITH电子束曝光设备资料
一、基本信息:
品牌名称:RAITH
主要设备:电子束曝光及成像系统、图形发射器。
主要用途:在化合物半导体等领域加工线宽8-350纳米图形或掩膜板加工。
二、设备及应用:
(一). 多功能电子束光刻设备Pioneer Two:
Pioneer Two是一款高性价比的成套的电子束光刻设备,采用30kV Gemini电子束技术,应用于2英寸以下晶圆的纳米级光刻、高分辨成像及低压电子束光刻。
20keV下在HSQ胶上曝光亚8nm线条
(二). 多功能电子束光刻设备eLine Plus:
eLine Plus是一款集成了纳米操纵设备,如纳米探针、用于聚焦电子束诱导过程的气体注入系统等各种多功能选件的电子束光刻设备,广泛应用于学校和各大科研机构,采用30kV Gemini电子束技术,应用于4英寸以下基板的纳米级光刻、纳米工程、纳米操纵、纳米探测、纳米轮廓仪、聚焦电子束诱导和成像分析等。
HSQ胶上制作亚5nm线条
(三). 专业型电子束光刻设备Raith150 Two:
Raith150 Two是一款高分辨电子束光刻设备,采用30kV Gemini电子束技术,应用于8英寸以下基板(可曝光面积6英寸)的纳米级光刻、高分辨成像及低压电子束光刻,可实现亚5nm的曝光结构。
HSQ胶上制作亚4.5nm线条及PMMA胶上制作精细的11nm线条
(四). 专业型电子束光刻设备Voyager:
Voyager是一款高性价比采用创新的eWrite体系结构的电子束光刻设备,采用50kV eWrite 电子束技术,应用于8英寸以下基板(可曝光面积6英寸)的高速直写,适合衍射光学元件、防伪元件的加工及化合物半导体器件的高速加工。
HSQ胶上制作亚7nm线条
(五). 专业型电子束光刻设备EBPG5150/5200:
EBPG5150/5200是一款高自动化的电子束光刻设备,采用100kV EBPG 电子束技术,应用于8英寸以下基板(5150可曝光面积6英寸、5200可曝光面积8英寸)的高深宽比纳米结构曝光、高速电子束直写,适合防伪标识的加工及化合物半导体器件的高速加工。
制作GaAs T型器件及在化合物半导体上的应用
(六). 纳米加工和纳米光刻升级配件Elphy:
Elphy系列光刻升级配件可以将现有的SEM、SEM-FIB、HIM等聚焦离子束电子束系统升级为纳米光刻和纳米加工设备。