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半导体行业专用仪器
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Trymax等离子灰化和蚀刻NEO200A平台
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TRYMAX等离子除胶机NEO3000
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其他
亚科电子-超高分辨率电子束光刻EBL
超高分辨率的电子束光刻
亚科电子-超高分辨率的电子束光刻
电子束光刻
电子束光刻系统(EBL)
PICOSUN®R-200高级ALD镀膜设备
PICOSUN®Morpher原子层沉积系统ALD
PICOSUN®P-1000原子层沉积系统ALD
PICOSUN®P-300S原子层沉积系统ALD
PICOSUN®P-300BV原子层沉积系统ALD
光学仪器及设备
聚焦离子束(Xe)扫描电镜FERA -XM
聚焦离子束(Xe)扫描电镜FERA -GM
聚焦离子束(Xe)扫描电镜FERA
场发射扫描电镜MIRA-LM
场发射扫描电镜MIRA XM
场发射扫描电镜MIRA- GM
场发射扫描电镜MIRA-GM
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ContourX-500 3D计量的全自动台式
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ContourX-100 3D光学轮廓仪
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美国MARCH AP-300等离子系统—紧凑型、桌面式
美国MARCH AP-1000等离子清洗系统
MARCH AP-600等离子系统紧凑型、桌面式
研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570
法国IBS IMC210中束流离子注入机
AP-600等离子系统-紧凑型、桌面式等离子处理设备
SPTS深硅刻蚀设备
RAITH电子束曝光设备
RIE反应离子刻蚀SI 591
ICP-RIE感应耦合等离子刻蚀SI 500
X射线仪器
Nordson Dage Quadra™ 3 X-射线检测系统
Nordson Dage X-射线检测系统XD7800NT
Quadra™ 7 X-射线检测系统
Nordson Dage Quadra™ 5 X-射线检测系统
Nordson DAGE Quadra X光检查机
QC3高分辨率X射线衍射仪
Jordan Valley Delta-X多功能的X射线衍射设备
X射线单晶衍射仪
比表面积测定仪
Hysitron TI定量纳米力学研究
布鲁克BRUKER纳米力学测试设备Bruker TI 950
Bruker Hysitron TI 980纳米压痕仪
Hysitron TS 77 Select纳米压痕仪
布鲁克高精度纳米力学测试系统TI 980
Bruker微纳压痕划痕测试仪CETR-Apex
无损检测/无损探伤仪器
超声波扫描显微镜:C-SAM检测系统
Sonoscan D9600 C-SAM超声波扫描显微镜
Sonoscan超声波扫描显微镜Gen7 C-SAM检测系统
Nordson Dage Quadra 5 X-射线检测系统
Quadra系列X射线检测系统
试验机
Nordson DAGE 4000Plus 焊接强度测试仪
Nordson DAGE 3800+焊接强度测试仪
摩擦磨损试验机UMT-TriboLab
芯片系统
微流控芯片加工:EVG 610单面/双面光刻机
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产品系列
PICOSUN原子层沉积系统ALD
PICOSUN®R-200高级ALD镀膜设备
Picosun简介
Picosun是yi家全球公司,Picosun的总部位于芬兰的Espoo,其生产设施位于芬兰的Masala(Kirkkonummi)。PICOSUN®ALD设备专为高产量和高产量而设计,并且不断发展以提高效率。
Picosun适应性强其客户包括zui大的电子制造商,小型的创新型挑战者以及全球**的大学。 Picosun的组织机构和种类繁多的ALD解决方案都可以满足每个客户的需求。PICOSUN®研发工具具有du特的内置可扩展性,可确保将研究结果平稳过渡到大批量工业制造中,而不会出现技术差距。
Picosun的热情在于创新。当您想与设备制造商共同创建定制的ALD解决方案,从而**行业发展时,Picosun是您的合作伙伴。
Picosundu特的突破性ALD专业知识可追溯到ALD技术本身的诞生。于1974年在芬兰发明了ALD方法,并在工业上获得了**。在高质量ALD系统设计方面拥有丰富的经验。高度敬业的Picosun人员拥有****的ALD经验,并且为ALD的许多**做出了贡献。
ALD主要应用:
1.在集成电路上的应用:Fin-FET和HKMG工艺在Si衬底上长高K绝缘层HfO2,La2O3,Ta2O5,Al2O3等;电容器金属电ji;晶体管栅电ji;TSV电镀铜前长阻挡层和种子层;
2.在显示中的应用:在Micro-LED中通过在沟槽中长钝化层来改善光散射性能;在OLED中低温长防水层。
3.在激光器和功率器件的应用:VCSEL侧面长AlN、Al2O3保护层;GaN高频器件T Gate刻蚀后去氧化层并镀上保护层。
4.验证光刻胶性能:第三方实验室或者工厂FA部门,涂胶后通过低温ALD镀yi层很薄的膜来保持住光刻胶的整体形貌,然后通过FIB+TEM等方法来验证光刻胶性能,如果不镀膜直接上FIB或TEM会破坏光刻胶原有的形貌,无法获得准确的结果。
5.其他应用:MEMS/SAW等做高均匀性镀膜,锂电池、医疗等行业等粉末镀膜。
PICOSUN®R-200标准
PICOSUN®R-200标准ALD系统适用于数十种应用的研发,例如IC组件,MEMS器件,显示器,LED,激光和3D对象,例如透镜,光学器件,珠宝,硬币和医疗植入物。热ALD研究工具的市场***。它已成为创新驱动的公司和研究机构的**工具。
敏捷的设计实现了zui高质量的ALD薄膜沉积以及系统的zui终灵活性,可以满足未来的需求和应用。**的热壁设计具有完全du立的入口和仪器,可实现无颗粒工艺,适用于晶圆,3D对象和所有纳米级特征上的多种材料。得益于我们专有的Picoflow™技术,即使在zui具挑战性的通孔,超高长宽比和纳米颗粒样品上也可以实现出色的均匀性。 PICOSUN®R-200 Standard系统配备了功能强大且易于更换的液态,气态和固态化学物质前体源。与手套箱,粉末室和各种原位分析系统集成,无论您现在的研究领域是什么,或以后可能成为什么样的研究领域,都可以进行高效,灵活的研究,并获得良好的结果。
PICOSUN®R-200高级
PICOSUN®R-200 Advanced ALD系统适用于数十种应用的研发,例如IC组件,MEMS器件,显示器,LED,激光和3D对象,例如透镜,光学器件,珠宝,硬币和医疗植入物。
群集工具,Picoflow™扩散增强剂,卷对卷室,RGA,UHV兼容性,N2发生器,气体洗涤器,定制设计,用于惰性装载的手套箱集成PICOSUN®R-200高级ALD系统是高级ALD研究工具的全球市场***,已有数百个客户安装。它已成为创新驱动的公司和研究机构的**工具。
敏捷的设计实现了zui高质量的ALD薄膜沉积以及zui终的系统灵活性,可以满足未来的需求和应用。**的热壁设计具有完全du立的入口和仪器,可实现无颗粒工艺,适用于晶圆,3D对象和所有纳米级特征上的多种材料。得益于我们专有的Picoflow™技术,即使在zui具挑战性的通孔,超高长宽比和纳米颗粒样品上也能实现出色的均匀性。 PICOSUN®R-200 Advanced系统配备了功能强大且易于更换的液态,气态和固态化学品前体源。高效且获得**的远程等离子选件可实现金属沉积,而没有短路或等离子损坏的风险。与手套箱,UHV系统,手动和自动装载机,集群工具,粉末仓,卷对卷仓以及各种原位分析系统集成在yi起,无论您现在或将来的研究领域如何,都可以高效,灵活地进行研究,并获得良好的结果稍后。